阻抗谱法（EIS）测涂层耐蚀性，含涂层金属的阻抗为什么比纯金属小？
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教一个问题，麻烦有懂得人员帮帮忙： 实验：在金属片上做了个碳化物陶瓷涂层，该碳化物陶瓷涂层为聚碳硅烷裂解所得； 表征方法：采用（阻抗谱法）EIS来表征涂层的抗腐蚀性，接线方式如下图所示； 测试结果：分别测试了“不含涂层的金属片”和“含涂层的金属片”的Nyquist图中，不含涂层的金属片的阻抗值 比 含有涂层的金属片的阻抗值大；测试结果如下图所示 我的问题：含涂层保护的金属片的阻抗值没有道理 比 单纯的金属片的阻抗值还小呀？在这个电解质的连线方式中，涂层和金属片属于串联，想不通含有涂层的金属片的阻抗 会比 不含涂层金属片的阻抗值小。
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