This erratum corrects typographical errors in Tables 1 and 2.

This erratum corrects the following:

B. J. Lee, A. Efremov, K.-H. Kwon. Plasma Processes Polym. Gas-phase chemistry and reactive-ion etching kinetics for silicon-based materials in C₄F₈ + O₂ + Ar plasma. 2021;18:e2000249. https://doi.org/10.1002/ppap.202000249.

In the published version of the article¹, Table 1 contained a typographical error in line 52.

Table 1. Reduced reaction set for the chemistry of neutral species in C₄F₈ + O₂ + Ar plasma

Process		, [cm3/s]
1.	C4F8 + e → 2C2F4 + e
2.	C4F8 + e → C3F6 + CF2 + e
3.	C3F6 + e → C2F4 + CF2 + e
4.	C2F4 + e → 2CF2 + e
5.	C2F3 + e → CF2 + CF + e
6.	CF4 + e → CF3 + F + e
7.	CF4 + e → CF3+ + F + 2e
8.	CF3 + e → CF2 + F + e
9.	CF2 + e → CF + F + e
10.	CF + e → C + F + e
11.	F2 + e → 2F + e
12.	O2 + e → 2O + e
13.	O2 + e → O + O(1D) + e
14.	CO2 + e → CO + O + e
15.	CO + e → C + O + e
16.	O + e → O(1D) + e
17.	FO + e → F + O + e
18.	CFO + e → CO + F + e
19.	CF2O + e → CFO + F + e
20.	C2F3 + F → C2F4	1.0 × 10−12
21.	C2F4 + F → CF2 + CF3	3.9 × 10−11
22.	C2F4 + C → C2F3 + CF	1.0 × 10−10
23.	CF3 + F → CF4	1.0 × 10−12
24.	CF2 + CF → C2F3	1.0 × 10−12
25.	C2F4 + O → CF2O + CF2	2.5 × 10−12
26.	C2F4 + O → CFO + CF3	7.1 × 10−13
27.	C2F4 + O(1D) → CF2O + CF2	2.5 × 10−11
28.	CF3 + O → CF2O + F	3.2 × 10−11
29.	CF3 + O(1D) → CF2O + F	3.2 × 10−11
30.	CF2 + O → CFO + F	3.1 × 10−11
31.	CF2 + O(1D) → CFO + F	3.1 × 10−11
32.	CF2 + O → CO + 2F	3.9 × 10−12
33.	CF + O → CO + F	6.3 × 10−11
34.	CF + O(1D) → CO + F	2.0 × 10−11
35.	CF + O2 → CFO + O	3.2 × 10−11
36.	FO + O → F + O2	2.5 × 10−11
37.	FO + O(1D) → F + O2	5.0 × 10−11
38.	CF2O + O(1D) → F2 + CO2	2.0 × 10−11
39.	CFO + O → CO2 + F	1.0 × 10−10
40.	CFO + O(1D) → CO2 + F	1.0 × 10−10
41.	CFO + CF3 → CF4 + CO	1.0 × 10−11
42.	CFO + CF3 → CF2O + CF2	1.0 × 10−11
43.	CFO + CF2 → CF3 + CO	3.1 × 10−13
44.	CFO + CF2 → CF2O + CF	3.2 × 10−13
45.	2CFO → CF2O + CO	1.0 × 10−11
46.	CFO + F → CF2O	7.9 × 10−11
47.	C + O2 → CO + O	1.6 × 10−11
48.	CO + F → CFO	1.3 × 10−11
49.	F → F(s)
	F(s) + F → F2
	F(s) + CFx → CFx +1
	F(s) + C2F3 → C2F4
	F(s) + O → FO
50.	CFx → CFx(s)
	CFx(s) + F → CFx + 1
	CFx(s) + CF → C2Fx + 1
	CFx(s) + O → CFxO
51.	O → O(s)
	O(s) + O → O2
	O(s) + F → FO
	O(s) + CFx → CFxO
52.	C → C(s)
	C(s) + O → CO
	C(s) + F → CF

Table 2 was displayed correctly in the online version but was distorted in the PDF.

Please see the correct tables below.

Table 2. Electrons- and ions-related parameters in C₄F₈ + Ar plasma

(%)	(eV)	(mA/cm2)	(V)	≈  (cm−3)	(cm−2s−1)	(eV1/2cm−2s−1)
0	5.1	0.88	364	3.6 × 1010	0.55 × 1016	0.9 × 1018
25	4.8	1.03	346	3.9 × 1010	0.64 × 1016	1.0 × 1018
50	4.3	1.36	298	5.0 × 1010	0.85 × 1016	1.1 × 1018
75	4.1	1.97	261	6.8 × 1010	1.23 × 1016	1.4 × 1018

We apologize for these errors.

中文翻译：

---

勘误表：C4F8 + O2 + Ar 等离子体中硅基材料的气相化学和反应离子蚀刻动力学

此勘误表更正了表 1 和表 2 中的印刷错误。

此勘误更正了以下内容：

BJ Lee, A. Efremov, K.-H. 权。等离子加工聚合物。C ₄ F ₈  + O ₂  + Ar 等离子体中硅基材料的气相化学和反应离子蚀刻动力学。2021;18:e2000249。https://doi.org/10.1002/papp.202000249。

在文章¹的已发布版本中，表 1 的第 52 行包含一个印刷错误。

表 1. C ₄ F ₈  + O ₂  + Ar 等离子体中中性物质化学的简化反应组

过程		, [cm 3 /s]
1.	C 4 F 8 + e → 2C 2 F 4 + e
2.	C 4 F 8 + e → C 3 F 6 + CF 2 + e
3.	C 3 F 6 + e → C 2 F 4 + CF 2 + e
4.	C 2 F 4 + e → 2CF 2 + e
5.	C 2 F 3 + e → CF 2 + CF + e
6.	CF 4 + e → CF 3 + F + e
7.	CF 4 + e → CF 3 + + F + 2e
8.	CF 3 + e → CF 2 + F + e
9.	CF 2 + e → CF + F + e
10.	CF + e → C + F + e
11.	F 2 + e → 2F + e
12.	O 2 + e → 2O + e
13.	O 2 + e → O + O( 1 D) + e
14.	CO 2 + e → CO + O + e
15.	CO + e → C + O + e
16.	O + e → O( 1 D) + e
17.	FO + e → F + O + e
18.	首席财务官 + e → CO + F + e
19.	CF 2 O + e → 首席财务官 + F + e
20.	C 2 F 3 + F → C 2 F 4	1.0 × 10 −12
21.	C 2 F 4 + F → CF 2 + CF 3	3.9 × 10 −11
22.	C 2 F 4 + C → C 2 F 3 + CF	1.0 × 10 −10
23.	CF 3 + F → CF 4	1.0 × 10 −12
24.	CF 2 + CF → C 2 F 3	1.0 × 10 −12
25.	C 2 F 4 + O → CF 2 O + CF 2	2.5 × 10 −12
26.	C 2 F 4 + O → 首席财务官 + CF 3	7.1 × 10 −13
27.	C 2 F 4 + O( 1 D) → CF 2 O + CF 2	2.5 × 10 −11
28.	CF 3 + O → CF 2 O + F	3.2 × 10 −11
29.	CF 3 + O( 1 D) → CF 2 O + F	3.2 × 10 −11
30.	CF 2 + O → 首席财务官 + F	3.1 × 10 −11
31.	CF 2 + O( 1 D) → 首席财务官 + F	3.1 × 10 −11
32.	CF 2 + O → CO + 2F	3.9 × 10 −12
33.	CF + O → CO + F	6.3 × 10 −11
34.	CF + O( 1 D) → CO + F	2.0 × 10 −11
35.	CF + O 2 → 首席财务官 + O	3.2 × 10 −11
36.	FO + O → F + O 2	2.5 × 10 −11
37.	FO + O( 1 D) → F + O 2	5.0 × 10 −11
38.	CF 2 O + O( 1 D) → F 2 + CO 2	2.0 × 10 −11
39.	CFO + O → CO 2 + F	1.0 × 10 −10
40.	CFO + O( 1 D) → CO 2 + F	1.0 × 10 −10
41.	首席财务官 + CF 3 → CF 4 + CO	1.0 × 10 −11
42.	首席财务官 + CF 3 → CF 2 O + CF 2	1.0 × 10 −11
43.	首席财务官 + CF 2 → CF 3 + CO	3.1 × 10 −13
44.	首席财务官 + CF 2 → CF 2 O + CF	3.2 × 10 −13
45.	2CFO → CF 2 O + CO	1.0 × 10 −11
46.	首席财务官 + F → CF 2 O	7.9 × 10 −11
47.	C + O 2 → CO + O	1.6 × 10 −11
48.	CO + F → 首席财务官	1.3 × 10 −11
49.	F → F(s)
	F(s) + F → F 2
	F(s) + CF x → CF x  +1
	F(s) + C 2 F 3 → C 2 F 4
	F(s) + O → FO
50.	CF x → CF x (s)
	CF x (s) + F → CF x  + 1
	CF x (s) + CF → C 2 F x  + 1
	CF x (s) + O → CF x O
51.	O → O(s)
	O(s) + O → O 2
	O(s) + F → FO
	O(s) + CF x → CF x O
52.	C → C(s)
	C(s) + O → CO
	C(s) + F → CF

表 2 在在线版本中显示正确，但在 PDF 中失真。

请参阅下面的正确表格。

表 2. C ₄ F ₈  + Ar 等离子体中的电子和离子相关参数

(%)	(eV)	(mA/cm 2 )	（五）	≈  (cm -3 )	（厘米-2秒-1）	(eV 1/2 cm -2 s -1 )
0	5.1	0.88	364	3.6 × 10 10	0.55 × 10 16	0.9 × 10 18
25	4.8	1.03	346	3.9 × 10 10	0.64 × 10 16	1.0 × 10 18
50	4.3	1.36	298	5.0 × 10 10	0.85 × 10 16	1.1 × 10 18
75	4.1	1.97	261	6.8 × 10 10	1.23 × 10 16	1.4 × 10 18

对于这些错误，我们深表歉意。