A new kind of cationic initiator IRGACURE 784 (TI, BASF) was dispersed into PMMA matrix to fabricate TI/PMMA polymer, which exhibited excellent absorptive and polarization sensitivities under 532 nm wavelength laser beam exposure. Theoretical investigations on the grating formation mechanisms under two different time scales of exposure were performed (short time duration: millisecond level, long time duration: second level). We introduced an analogical four-energy-level rate equation on analyzing the photo-induced process of TI molecules. Furthermore, an absorptive diffusion polymerization (ADP) model resulting from the combination of the non-local diffusion model and the analogical four-energy-level model was proposed to describe the grating formation in TI/PMMA polymers with different conditions (sample thickness and exposure duration level). In addition, intensity (two p-polarized recording beams) and polarization holographic recording (two orthogonally polarized recording beams) approaches were applied to compare the grating enhancement process and multiplexed storage ability in TI/PMMA polymers. We achieved the maximum single grating strength with 0.86 and 0.63 in 3 mm thick sample, respectively. And, cumulative grating strength of 2.06 and 1.23 by angular multiplexing five gratings and polarized-angular multiplexing ten gratings in 3 mm thick sample, respectively. Our current work supplemented and summarized the comprehensive holographic performance in TI/PMMA polymer by investigating its photo-sensitivity and polarization-sensitivity.

将一种新型阳离子引发剂 IRGACURE 784 (TI, BASF) 分散到 PMMA 基体中以制备 TI/PMMA 聚合物，该聚合物在 532 nm 波长激光束照射下表现出优异的吸收和偏振灵敏度。对两种不同曝光时间尺度下的光栅形成机制进行了理论研究（短时间：毫秒级，长时间：秒级）。我们引入了一个类比的四能级速率方程来分析 TI 分子的光致过程。此外，提出了由非局部扩散模型和类比四能级模型相结合产生的吸收扩散聚合（ADP）模型来描述不同条件（样品厚度和曝光量）的 TI/PMMA 聚合物中的光栅形成持续时间级别）。此外，还应用了强度（两个 p 偏振记录光束）和偏振全息记录（两个正交偏振记录光束）方法来比较 TI/PMMA 聚合物中的光栅增强过程和多路复用存储能力。我们在 3 毫米厚的样品中分别获得了 0.86 和 0.63 的最大单光栅强度。并且，在 3 mm 厚的样品中，通过角度复用五个光栅和偏振角度复用十个光栅，累积光栅强度分别为 2.06 和 1.23。我们目前的工作通过研究其光敏性和偏振敏感性来补充和总结 TI/PMMA 聚合物的综合全息性能。应用强度（两个 p 偏振记录光束）和偏振全息记录（两个正交偏振记录光束）方法来比较 TI/PMMA 聚合物中的光栅增强过程和多路复用存储能力。我们在 3 毫米厚的样品中分别获得了 0.86 和 0.63 的最大单光栅强度。并且，在 3 mm 厚的样品中，通过角度复用五个光栅和偏振角度复用十个光栅，累积光栅强度分别为 2.06 和 1.23。我们目前的工作通过研究其光敏性和偏振敏感性来补充和总结 TI/PMMA 聚合物的综合全息性能。应用强度（两个 p 偏振记录光束）和偏振全息记录（两个正交偏振记录光束）方法来比较 TI/PMMA 聚合物中的光栅增强过程和多路复用存储能力。我们在 3 毫米厚的样品中分别获得了 0.86 和 0.63 的最大单光栅强度。并且，在 3 mm 厚的样品中，通过角度复用五个光栅和偏振角度复用十个光栅，累积光栅强度分别为 2.06 和 1.23。我们目前的工作通过研究其光敏性和偏振敏感性来补充和总结 TI/PMMA 聚合物的综合全息性能。我们在 3 毫米厚的样品中分别获得了 0.86 和 0.63 的最大单光栅强度。并且，在 3 mm 厚的样品中，通过角度复用五个光栅和偏振角度复用十个光栅，累积光栅强度分别为 2.06 和 1.23。我们目前的工作通过研究其光敏性和偏振敏感性来补充和总结 TI/PMMA 聚合物的综合全息性能。我们在 3 毫米厚的样品中分别获得了 0.86 和 0.63 的最大单光栅强度。并且，在 3 mm 厚的样品中，通过角度复用五个光栅和偏振角度复用十个光栅，累积光栅强度分别为 2.06 和 1.23。我们目前的工作通过研究其光敏性和偏振敏感性来补充和总结 TI/PMMA 聚合物的综合全息性能。