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栅状蚀刻铜箔上的掺氟碳量子点界面层,用于增强锂离子存储
Chemical Engineering Journal ( IF 13.3 ) Pub Date : 2020-10-31 , DOI: 10.1016/j.cej.2020.127563
Dong-Yo Shin , Ki-Wook Sung , Hyo-Jin Ahn

锂离子电池(LIB)中阳极电极的界面工程是提高锂离子存储动力学和界面稳定性以实现出色的超快循环容量和LIB循环稳定性的关键策略。然而,尽管对电极材料的界面工程进行了广泛的研究,但很少有关于电极与集电器之间的界面设计以提高超快循环性能的研究。在这项研究中,我们通过电化学修饰和喷涂工艺设计了一种新型界面结构,用于在寨子形蚀刻铜箔上的氟掺杂碳量子点(F-CQD)界面层。用所得的铜箔组装的阳极电极显示出增强的附着力,高反应动力学,由于在寨子形蚀刻铜箔上的F-CQD界面层,电极与铜箔之间的界面稳定性极好,从而改善了超快循环性能。因此,具有带F-CQD界面层的堆垛状蚀刻图案的Cu箔的新颖结构显示出增加的超快循环容量82.9 mAh g-1,在超快循环条件下进行500次循环后,超快循环稳定性达到94.1%。这些改进的超快循环性能归因于电极和Cu箔之间的高接触面积,出色的反应位点和极好的耐腐蚀性。





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更新日期:2020-11-02
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