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Effects of 660‐nm and 810‐nm Low‐Power Diode Laser on Proliferation and Invasion of Oral Cancer Cells in Cell Culture Media
Photochemistry and Photobiology ( IF 2.6 ) Pub Date : 2020-11-16 , DOI: 10.1111/php.13351 Shiva Shirazian 1 , Elham Keykha 2 , Sara Pourshahidi 1 , Hooman Ebrahimi 3
Photochemistry and Photobiology ( IF 2.6 ) Pub Date : 2020-11-16 , DOI: 10.1111/php.13351 Shiva Shirazian 1 , Elham Keykha 2 , Sara Pourshahidi 1 , Hooman Ebrahimi 3
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In the present study, the effects of 660- and 810-nm diode laser on the proliferation and invasion of cancer cells were investigated. Sixteen plates of oral cancer cells originated from tongue SCC were irradiated with diode laser at 660-nm (40 and 80 mW) and 810-nm (100 and 200 mW) with the energy density of 4 J/cm2. One plate received no irradiation (the control). Irradiation was performed in four times (0,24,72 and 168 hours). Cell proliferation was measured by MTT assay. The Ki67 and vascular endothelial growth factor (VEGF) markers were examined by real-time polymerase chain reaction (RT-PCR). Cyclin D1, E-cadherin, β-catenin, matrix metalloproteinase-9 (MMP-9; flow cytometry), were also evaluated. Proliferation was lower in the irradiated groups. This result was significant for all groups at the 24-hour. The percentages of Cyclin D1and MMP-9 were higher in 810nm groups, β-catenin and E-cadherin were higher in 660 nm groups, VEGF marker was significantly lower in 810 nm/200 mW group and Ki67 marker was no difference between the groups. According to the results of this study, laser irradiation at 0- and 24-h resulted in a significant inhibitory effect on cell proliferation especially in 660-nm / 80-mW and 810-nm / 200-mW. Further studies are needed in this respect.
中文翻译：
660nm和810nm低功率二极管激光器对细胞培养基中口腔癌细胞增殖和侵袭的影响
在本研究中，研究了 660 和 810 纳米二极管激光对癌细胞增殖和侵袭的影响。用 660 nm（40 和 80 mW）和 810 nm（100 和 200 mW）的二极管激光照射 16 块源自舌 SCC 的口腔癌细胞，能量密度为 4 J/cm2。一块板没有接受辐照（对照）。辐照分四次（0、24、72 和 168 小时）进行。通过MTT测定法测量细胞增殖。通过实时聚合酶链反应 (RT-PCR) 检查 Ki67 和血管内皮生长因子 (VEGF) 标志物。还评估了细胞周期蛋白 D1、E-钙粘蛋白、β-连环蛋白、基质金属蛋白酶 9（MMP-9；流式细胞术）。辐照组的增殖较低。这一结果在 24 小时内对所有组都是显着的。Cyclin D1和MMP-9的百分比在810nm组较高，β-catenin和E-cadherin在660nm组较高，VEGF标志物在810nm/200mW组显着降低，Ki67标志物组间无差异。根据这项研究的结果，0 和 24 小时的激光照射对细胞增殖具有显着的抑制作用，尤其是在 660-nm / 80-mW 和 810-nm / 200-mW 下。在这方面需要进一步的研究。
更新日期：2020-11-16
中文翻译：
660nm和810nm低功率二极管激光器对细胞培养基中口腔癌细胞增殖和侵袭的影响
在本研究中，研究了 660 和 810 纳米二极管激光对癌细胞增殖和侵袭的影响。用 660 nm（40 和 80 mW）和 810 nm（100 和 200 mW）的二极管激光照射 16 块源自舌 SCC 的口腔癌细胞，能量密度为 4 J/cm2。一块板没有接受辐照（对照）。辐照分四次（0、24、72 和 168 小时）进行。通过MTT测定法测量细胞增殖。通过实时聚合酶链反应 (RT-PCR) 检查 Ki67 和血管内皮生长因子 (VEGF) 标志物。还评估了细胞周期蛋白 D1、E-钙粘蛋白、β-连环蛋白、基质金属蛋白酶 9（MMP-9；流式细胞术）。辐照组的增殖较低。这一结果在 24 小时内对所有组都是显着的。Cyclin D1和MMP-9的百分比在810nm组较高，β-catenin和E-cadherin在660nm组较高，VEGF标志物在810nm/200mW组显着降低，Ki67标志物组间无差异。根据这项研究的结果，0 和 24 小时的激光照射对细胞增殖具有显着的抑制作用，尤其是在 660-nm / 80-mW 和 810-nm / 200-mW 下。在这方面需要进一步的研究。
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