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Investigation of Thermal Annealing Effect on Bilayer Graphene by Isotope‐Labeling‐Assisted Raman Spectroscopy
Physica Status Solidi (B) - Basic Solid State Physics ( IF 1.5 ) Pub Date : 2020-10-29 , DOI: 10.1002/pssb.202000250 Jinglan Liu 1 , Xuewei Zhang 1 , Yanhan Jin 1 , Yang Zhang 1 , Zilong Zhang 1 , Yang Xia 2 , Pei Zhao 1 , Hongtao Wang 1
Physica Status Solidi (B) - Basic Solid State Physics ( IF 1.5 ) Pub Date : 2020-10-29 , DOI: 10.1002/pssb.202000250 Jinglan Liu 1 , Xuewei Zhang 1 , Yanhan Jin 1 , Yang Zhang 1 , Zilong Zhang 1 , Yang Xia 2 , Pei Zhao 1 , Hongtao Wang 1
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Thermal annealing is a necessary step in the standard fabrication process of graphene for removal of polymethyl methacrylate (PMMA). The influence of thermal annealing on monolayer graphene (MLG) has been intensively studied, but that on bilayer graphene (BLG) remains unclear. A key challenge for such investigation is that the Raman spectroscopic method that is usually used on MLG encounters the overlap of featured peaks from the two graphene layers. Herein, the independent featured Raman peaks of the two layers can be detected using isotope‐labeled BLG samples, so that the shift in each spectrum affected by the annealing process can be monitored. Results show that there are compression and doping in MLG and twisted‐stacked BLG (t‐BLG) after annealing. Compared with that in MLG, the annealing‐induced doping level in the adlayer of t‐BLG is lower, and in the top layer of t‐BLG, only a low level of doping and compression remains after thermal annealing. Moreover, the annealing‐induced doping level in AB‐stacked BLG (AB‐BLG) is almost the same with that in t‐BLG, and the originally induced compression during a transfer process is unloaded. These results can provide more understanding for the post‐treatment of graphene on substrates and the characterization of each layer.
中文翻译：
同位素标记辅助拉曼光谱研究双层石墨烯的热退火效应
在石墨烯的标准制造工艺中，热退火是去除聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）的必要步骤。已经深入研究了热退火对单层石墨烯（MLG）的影响，但对双层石墨烯（BLG）的影响尚不清楚。此类研究面临的主要挑战是，通常用于MLG的拉曼光谱法会遇到两个石墨烯层的特征峰重叠。在这里，可以使用同位素标记的BLG样品检测两层的独立特征拉曼峰，因此可以监测退火过程影响的每个光谱的位移。结果表明，退火后MLG和扭曲堆叠的BLG（t-BLG）中存在压缩和掺杂。与MLG相比，t-BLG的掺杂层中退火诱导的掺杂水平较低，在t-BLG的顶层，热退火后仅保留少量的掺杂和压缩。此外，AB叠层BLG（AB-BLG）中的退火引起的掺杂水平与t-BLG中的退火引起的掺杂水平几乎相同，并且在转移过程中最初引起的压缩被卸载。这些结果可以为石墨烯在基材上的后处理以及每一层的特性提供更多的了解。
更新日期：2020-12-14
中文翻译：
同位素标记辅助拉曼光谱研究双层石墨烯的热退火效应
在石墨烯的标准制造工艺中，热退火是去除聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）的必要步骤。已经深入研究了热退火对单层石墨烯（MLG）的影响，但对双层石墨烯（BLG）的影响尚不清楚。此类研究面临的主要挑战是，通常用于MLG的拉曼光谱法会遇到两个石墨烯层的特征峰重叠。在这里，可以使用同位素标记的BLG样品检测两层的独立特征拉曼峰，因此可以监测退火过程影响的每个光谱的位移。结果表明，退火后MLG和扭曲堆叠的BLG（t-BLG）中存在压缩和掺杂。与MLG相比，t-BLG的掺杂层中退火诱导的掺杂水平较低，在t-BLG的顶层，热退火后仅保留少量的掺杂和压缩。此外，AB叠层BLG（AB-BLG）中的退火引起的掺杂水平与t-BLG中的退火引起的掺杂水平几乎相同，并且在转移过程中最初引起的压缩被卸载。这些结果可以为石墨烯在基材上的后处理以及每一层的特性提供更多的了解。
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