Single crystals and thin films of metal–organic frameworks can now be directly patterned by lithography down to the sub-50-nm scale, enabling straightforward integration in solid-state devices.

中文翻译：

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以较小的比例图案化MOF

现在可以通过光刻技术直接将金属-有机骨架的单晶和薄膜图案化至50纳米以下，从而可以直接集成到固态设备中。