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Comment on “Stress-strain state in α -Ga 2 O 3 epitaxial films on α -Al 2 O 3 substrates” [Appl. Phys. Express 13 [https://doi.org/10.35848/1882-0786/ab9657] , 075502 (2020) ]
Applied Physics Express ( IF 2.3 ) Pub Date : 2020-07-16 , DOI: 10.35848/1882-0786/aba380 Marius Grundmann
Applied Physics Express ( IF 2.3 ) Pub Date : 2020-07-16 , DOI: 10.35848/1882-0786/aba380 Marius Grundmann
Description unavailable
中文翻译:
关于“在α-Al 2 O 3衬底上的α-Ga 2 O 3外延膜中的应力应变状态”的评论。物理 快递13 [https://doi.org/10.35848/1882-0786/ab9657],075502(2020)]
说明不可用
更新日期:2020-07-17
中文翻译:
关于“在α-Al 2 O 3衬底上的α-Ga 2 O 3外延膜中的应力应变状态”的评论。物理 快递13 [https://doi.org/10.35848/1882-0786/ab9657],075502(2020)]
说明不可用