During the large-area EB irradiation, plasma generation is confirmed by collision of electrons with vaporized workpiece materials above the substrate surface due to its high energy density. This phenomenon would cause the sputtering of target material when it is set near the substrate surface. Thus, there is a possibility for coating a target material on the substrate surface by the large-area EB irradiation. The simultaneous sputter deposition of target material with melting and resolidification of workpiece surface by the large-area EB would improve the adhesion strength between the coated film and the workpiece surface. In this study, a new ceramics coating method with sputtering of target tube by large-area EB irradiation is proposed. Ceramic target tube made of alumina is put on the substrate surface of mold steel, and the large-area EB is irradiated to the substrate surface. The alumina film with thickness of several micro meter can be formed on the substrate surface. Moreover, the film formation mechanism is discussed by changing material property of a jig supporting the alumina target tube. The spectrum of plasma generated on the substrate surface during the EB irradiation is also analyzed. It is made clear that the magnetic property of jig greatly influences on the film formation. Furthermore, main components of plasma generated on workpiece surface during the process are components of steel in the case of low number of EB irradiation, while much more alumina component as a film is detected in the case of high number of EB irradiation.

在大面积EB辐射期间，由于电子与衬底表面上方的汽化工件材料的高能量密度相撞，从而确认了等离子体的产生。当靶材靠近基板表面放置时，此现象会导致靶材溅射。因此，有可能通过大面积EB照射在基板表面上涂覆目标材料。通过大面积电子束同时溅射沉积靶材料并熔化和固化工件表面，将改善涂膜与工件表面之间的粘合强度。在这项研究中，提出了一种通过大面积电子束辐照溅射靶管的新型陶瓷涂覆方法。将由氧化铝制成的陶瓷靶管放在模具钢的基体表面上，并且将大面积EB照射到基板表面。可以在基板表面上形成厚度为几微米的氧化铝膜。此外，通过改变支撑氧化铝靶管的夹具的材料性能来讨论成膜机理。还分析了在EB辐射过程中在基板表面上产生的等离子体的光谱。显然，夹具的磁性极大地影响了成膜。此外，在该过程中在工件表面上产生的等离子体的主要成分是在EB照射次数较少的情况下钢的成分，而在EB照射次数较多的情况下，会检测到更多的氧化铝成分，如薄膜。可以在基板表面上形成厚度为几微米的氧化铝膜。此外，通过改变支撑氧化铝靶管的夹具的材料性能来讨论成膜机理。还分析了在EB辐射过程中在基板表面上产生的等离子体的光谱。显然，夹具的磁性极大地影响了成膜。此外，在该过程中在工件表面上产生的等离子体的主要成分是在EB照射次数较少的情况下钢的成分，而在EB照射次数较多的情况下，会检测到更多的氧化铝成分（如膜）。可以在基板表面上形成厚度为几微米的氧化铝膜。此外，通过改变支撑氧化铝靶管的夹具的材料性能来讨论成膜机理。还分析了在EB辐射过程中在基板表面上产生的等离子体的光谱。显然，夹具的磁性极大地影响了成膜。此外，在该过程中在工件表面上产生的等离子体的主要成分是在EB照射次数较少的情况下钢的成分，而在EB照射次数较多的情况下，会检测到更多的氧化铝成分（如膜）。还分析了在EB辐射过程中在基板表面上产生的等离子体的光谱。显然，夹具的磁性极大地影响了成膜。此外，在该过程中在工件表面上产生的等离子体的主要成分是在EB照射次数较少的情况下钢的成分，而在EB照射次数较多的情况下，会检测到更多的氧化铝成分（如膜）。还分析了在EB辐射过程中在基板表面上产生的等离子体的光谱。显然，夹具的磁性极大地影响了成膜。此外，在该过程中在工件表面上产生的等离子体的主要成分是在EB照射次数较少的情况下的钢成分，而在EB照射次数较多的情况下，会检测到更多的氧化铝成分，例如薄膜。