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The formation of tungsten and tungsten carbides by CVD synthesis and the proposed mechanism of chemical transformations and crystallization processes
Materials Letters ( IF 2.7 ) Pub Date : 2018-10-01 , DOI: 10.1016/j.matlet.2018.06.003 V.V. Dushik , N.V. Rozhanskii , V.O. Lifshits , T.V. Rybkina , V.P. Kuzmin
Materials Letters ( IF 2.7 ) Pub Date : 2018-10-01 , DOI: 10.1016/j.matlet.2018.06.003 V.V. Dushik , N.V. Rozhanskii , V.O. Lifshits , T.V. Rybkina , V.P. Kuzmin
Abstract Tungsten (α-W and β-W modifications) and various tungsten carbides (W2C, WC1−x, WC) coatings were formed by chemical vapor deposition (CVD) in WF6, C3H8, H2 gas reactions. The structure of reaction products was studied by transmission electron microscopy and X-ray diffraction. The microhardness of coatings was determined by Vickers method. The mechanism of the CVD process is proposed to explain the formation of W or various (W-C) coatings and the variety of grain sizes in corresponding deposits.
中文翻译：
通过 CVD 合成形成钨和碳化钨以及化学转化和结晶过程的建议机制
摘要 钨（α-W 和 β-W 变体）和各种碳化钨（W2C、WC1-x、WC）涂层是通过化学气相沉积 (CVD) 在 WF6、C3H8、H2 气体反应中形成的。通过透射电子显微镜和X射线衍射研究了反应产物的结构。涂层的显微硬度采用维氏法测定。提出了 CVD 工艺的机制来解释 W 或各种 (WC) 涂层的形成以及相应沉积物中晶粒尺寸的变化。
更新日期：2018-10-01
中文翻译：
通过 CVD 合成形成钨和碳化钨以及化学转化和结晶过程的建议机制
摘要 钨（α-W 和 β-W 变体）和各种碳化钨（W2C、WC1-x、WC）涂层是通过化学气相沉积 (CVD) 在 WF6、C3H8、H2 气体反应中形成的。通过透射电子显微镜和X射线衍射研究了反应产物的结构。涂层的显微硬度采用维氏法测定。提出了 CVD 工艺的机制来解释 W 或各种 (WC) 涂层的形成以及相应沉积物中晶粒尺寸的变化。
京公网安备 11010802027423号