当前位置：
X-MOL 学术
›
Ind. Eng. Chem. Res.
›
论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your
feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
H3PW12O40 Grafted on CeO2: A High-Performance Catalyst for the Selective Catalytic Reduction of NOx with NH3
Industrial & Engineering Chemistry Research ( IF 3.8 ) Pub Date : 2018-01-12 00:00:00 , DOI: 10.1021/acs.iecr.7b03947 Yang Geng 1 , Shangchao Xiong 1 , Bo Li 1 , Yong Liao 1 , Xin Xiao 1 , Shijian Yang 1
Industrial & Engineering Chemistry Research ( IF 3.8 ) Pub Date : 2018-01-12 00:00:00 , DOI: 10.1021/acs.iecr.7b03947 Yang Geng 1 , Shangchao Xiong 1 , Bo Li 1 , Yong Liao 1 , Xin Xiao 1 , Shijian Yang 1
Affiliation
|
CeO2 showed a poor selective catalytic reduction (SCR) activity due to its poor ability to adsorb NH3. To improve the SCR performance of CeO2, tungstophosphoric acid (i.e., HPW, H3PW12O40) with a high acidic strength was grafted on CeO2 by the adsorption of HPW on CeO2 in a HPW solution. The grafting of HPW on the surface of CeO2 was demonstrated with characterizations by XPS, XRF, TG-DSC, and in situ DRIFT spectra. As HPW on HPW/CeO2-500 still retained the Keggin structure, HPW/CeO2-500 exhibited an excellent ability for NH3 adsorption. Both HPW and CeO2 on/in HPW/CeO2-500 played their functions to the greatest limit for the SCR reaction. CeO2 in HPW/CeO2-500 played the role in the activation of adsorbed NH3 and NO, and the grafted HPW on HPW/CeO2-500 acted as the active sites for NH3 adsorption. Therefore, HPW/CeO2-500 showed a superior SCR performance at 200–450 °C and an excellent H2O/SO2 resistance above 300 °C.
中文翻译：
CeO 2上接枝的H 3 PW 12 O 40：NH 3选择性催化还原NO x的高性能催化剂
由于CeO 2吸附NH 3的能力差，因此其选择性催化还原（SCR）活性差。为了改善的CeO的SCR性能2，磷钨酸（即，HPW，H 3 PW 12 ö 40）具有高的酸性强度接枝上的CeO 2通过HPW上的CeO吸附2在HPW溶液。通过XPS，XRF，TG-DSC和原位DRIFT谱表征了HPW在CeO 2表面的接枝。由于HPW / CeO 2 -500上的HPW仍保留Keggin结构，因此HPW / CeO 2 -500表现出出色的NH 3能力。吸附。既HPW和的CeO 2上/在HPW /的CeO 2 -500发挥它们的功能，以用于SCR反应的最大极限。的CeO 2在HPW /的CeO 2 -500起到吸附NH的活化中的作用3和NO，并且在HPW /的CeO接枝HPW 2 -500充当为NH的活性位点3吸附。因此，HPW / CeO 2 -500在200–450°C时表现出优异的SCR性能，在300°C以上时表现出出色的H 2 O / SO 2耐受性。
更新日期：2018-01-12
中文翻译：
CeO 2上接枝的H 3 PW 12 O 40：NH 3选择性催化还原NO x的高性能催化剂
由于CeO 2吸附NH 3的能力差，因此其选择性催化还原（SCR）活性差。为了改善的CeO的SCR性能2，磷钨酸（即，HPW，H 3 PW 12 ö 40）具有高的酸性强度接枝上的CeO 2通过HPW上的CeO吸附2在HPW溶液。通过XPS，XRF，TG-DSC和原位DRIFT谱表征了HPW在CeO 2表面的接枝。由于HPW / CeO 2 -500上的HPW仍保留Keggin结构，因此HPW / CeO 2 -500表现出出色的NH 3能力。吸附。既HPW和的CeO 2上/在HPW /的CeO 2 -500发挥它们的功能，以用于SCR反应的最大极限。的CeO 2在HPW /的CeO 2 -500起到吸附NH的活化中的作用3和NO，并且在HPW /的CeO接枝HPW 2 -500充当为NH的活性位点3吸附。因此，HPW / CeO 2 -500在200–450°C时表现出优异的SCR性能，在300°C以上时表现出出色的H 2 O / SO 2耐受性。
京公网安备 11010802027423号