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Sub-10-nm patterning via directed self-assembly of block copolymer films with a vapour-phase deposited topcoat
Nature Nanotechnology ( IF 38.1 ) Pub Date : 2017-03-27 00:00:00 , DOI: 10.1038/nnano.2017.34 Hyo Seon Suh , Do Han Kim , Priya Moni , Shisheng Xiong , Leonidas E. Ocola , Nestor J. Zaluzec , Karen K. Gleason , Paul F. Nealey
Nature Nanotechnology ( IF 38.1 ) Pub Date : 2017-03-27 00:00:00 , DOI: 10.1038/nnano.2017.34 Hyo Seon Suh , Do Han Kim , Priya Moni , Shisheng Xiong , Leonidas E. Ocola , Nestor J. Zaluzec , Karen K. Gleason , Paul F. Nealey
A thin topcoat that grafts directly to block copolymer films does not need to be removed prior to further fabrication steps.
中文翻译：
通过具有蒸汽相沉积的面漆的嵌段共聚物薄膜的定向自组装进行亚10纳米构图
直接接枝到嵌段共聚物薄膜上的薄面漆无需在进一步的制造步骤之前去除。
更新日期：2017-04-11
中文翻译：
通过具有蒸汽相沉积的面漆的嵌段共聚物薄膜的定向自组装进行亚10纳米构图
直接接枝到嵌段共聚物薄膜上的薄面漆无需在进一步的制造步骤之前去除。
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