个人简介
唐燕，女，1982年生，入选“西部之光”人才计划，。针对加工结果检测需要，以超分辨、三维测量为核心，开展多种检测方法研究及专用设备研发。 发表论文20余篇，其中以第一作者/通讯作者发表SCI论文10余篇，申请国家发明专利10余项，授权5项。作为项目负责人，主持国家自然科学基金青年、面上项目各一项，“西部之光”重点项目一项，中国科学院科学仪器研发项目一项，四川省科技支撑计划项目一项，作为课题负责人参与国家重大仪器专项“超分辨光刻装备研制”，负责其中核心间隙测量、检焦及对准系统研发。此外，带领微纳检测团队争取国家及省部级项目10余项。
招生方向
微电子装备关键技术
微纳结构三维形貌检测
教育背景
2005-09--2010-07 四川大学 工学博士
2001-09--2005-07 四川大学 工学学士
工作简历
2010-08~现在, 中国科学院光电技术研究所, 副研究员
专利成果
（ 1 ） 一种复合光栅纳米光刻自动对准系统, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 201510100540.1
（ 2 ） 基于数字扫描白光干涉的微纳结构形貌测量装置及方法, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: 201410157861.0
（ 3 ） 一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 201510001996.2
科研项目
（ 1 ） 基于相位偏折原理的高精度整场检焦方法研究, 主持, 国家级, 2012-01--2015-12
（ 2 ） 微纳流控芯片加工设备研制, 主持, 部委级, 2012-01--2015-12
（ 3 ） 超分辨光刻装备研制, 参与, 国家级, 2012-01--2015-12
研究领域
致力于微纳制造中的纳米检测技术研究，针对制造过程检测需要，开展光刻机设备核心检焦、对准及间隙测量等关键技术研究
近期论文
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（1） 基于复合光栅的大范围高精度对准方法, 光学学报, 2016, 通讯作者
（2） Nano-Focusing and Leveling System Based on Improved Phase Analysis, IEEE Photonics Journal, 2016, 第 1 作者
（3） 基于二维Ronchi光栅的纳米光刻对准技术研究, 光学学报, 2015, 通讯作者
（4） A Moire-Based Four-Channel Focusing and Leveling Scheme for Projection Lithography, IEEE Photonics, 2014, 通讯作者
（5） Influence of Collimation on Alignment Accuracy in Proximity Lithography, IEEE Photonics Journal, 2014, 第 4 作者
（6） Collimation Sensing With Differential Grating and Talbot Interferometry, IEEE Photonics Journal, 2014, 第 2 作者
（7） A hybrid doubled achromat based on a photon, optik, 2014, 第 3 作者
（8） Focusing property of high numerical aperture photon sieves based on vector diffraction, OPTICS COMMUNICATIONS, 2013, 第 1 作者
（9） Influence of tilt moire fringe on alignment accuracy in proximity lithography, Optics and Lasers in Engineering, 2013, 第 4 作者
（10） Alignment method based on matched dual-grating moiré fringe for proximity lithography, Optical Engineering, 2012, 第 4 作者
（11） 大数值孔径光子筛偏振特性研究, 光学学报, 2012, 第 1 作者
（12） 准相位型光子筛设计, 光学学报, 2012, 第 1 作者
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