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个人简介

教育背景 1985年-1989年:就读于南昌大学机械系,获学士学位 1992年-1995年:就读于哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,获硕士学位 1998年-2003年:就读于上海交通大学材料科学与工程学院,获博士学位 工作经历 1989年-1992年:江西省永平耐酸泵厂 助理工程师 1995年-2003年:上海交通大学材料科学与工程学院 讲师 2004年-至今: 上海交通大学材料科学与工程学院 副研究员

研究领域

研究方向一 高温结构材料 研究方向二 电子薄膜材料

近期论文

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Xianping Dong, Bo Zhang and Jiansheng Wu. Optical-electrical properties and corrosion behavior of tantalum-doped indium tin oxide film deposited by magnetron sputtering. Materials Science Forum,2010,638-642: 2897-2902 Xianping Dong and Jiansheng Wu. The role of aluminum in the crystallization of Cr-Si-Ni resistive films. Material Science and Engineering A, 2003,339(1/2): 297~301. Xianping Dong and Jiansheng Wu. The effect of zirconium on the crystallization behavior and electrical properties of Cr-Si-Al resistive films. Material Science and Engineering A, 2004,371(1/2): 1~8. Xianping Dong and Jiansheng Wu. Formation of an intermetallic phase by crystallization in Cr-Si-Ni-Al amorphous films. Journal of Alloys and Compounds, 2003,359(1):256~260. Xianping Dong and Jiansheng Wu. The crystallization of Cr-Si-Ni-Al amorphous films: Nucleation and growth of intermetallic phase Cr(Al,Si)2. Intermetallics, 2003,11(8):779~785. Dong XP and Wu JS. Study on the crystallization of amorphous Cr-Si-Ni thin films using in situ X-ray diffraction. J. Mater. Sci. Technol., 2001, 17: s43-46. Zhang B, Dong XP, Xu XF and Wu JS. Preparation and characterization of tantalum-doped indium tin oxide films deposited by magnetron sputtering, Scripta Materialia, 2008,58: 203-206 Wang XJ, Dong XP, Wu JS. Effects of Cr dopant on the microstructure and electromigration performance of Cu interconnects. Applied Surface Science, 2009,255: 9273–9278

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