2025 年 5 月 9 日 - 12 日，中国化学会第一届全国表界面科学会议在四川成都天府国际会议中心隆重召开。昆明理工大学先进低维材料与器件实验室蔡金明教授团队受邀参会，蔡金明教授作为学术委员会委员及第 17 分会 “原子级设计与制造” 主席，深度参与会议学术组织与交流，以“石墨烯的原子制造及其在功率器件热管理的应用”为题做主旨报告。会议期间，中国化学会表面物理化学专业委员会成立，经无记名投票选举，蔡金明教授当选专业委员会委员。我方特别邀请瑞士联邦材料科学与技术实验室（Empa）资深科学家卡尔 - 海因茨・恩斯特（Karl-Heinz・Ernst）教授出席 “表面分子研究国际论坛”，并以 “分子手性与表面自组装” 主题做特邀报告，为会议注入国际前沿学术视角。实验室卢建臣教授、高蕾副教授分别在分会场做邀请报告，分享了低维材料表界面调控的最新进展，孙诗杰、张永、薛宇飞博士通过快闪报告形式，展示了团队在石墨烯原子制造、理论计算等方向的突破性研究。值得关注的是，高蕾副教授凭借在表界面科学领域的突出贡献，荣获 “ACS Publication 表界面女科学家奖”。博士生张逸获得ACS Nano颁发的“Best Poster奖”。

蔡金明教授与参会老师交流并合影

本届会议由中国化学会物理化学学科委员会主办，北京大学纳米器件物理与化学教育部重点实验室承办，聚焦表界面构筑、表征、能源、催化等核心议题，表界面科学跨越物质、能源和信息等众多基础学科，是催化、超导和芯片等国家重大战略需求的共性科学基础。本次会议围绕表界面构筑、表界面表征、表界面理论、器件表界面、能源表界面、催化表界面等议题设置了 22 个分会，并举办“表面分子研究国际论坛”、“表界面女科学家论坛和“表界面科学博士生论坛”。第17分会围绕原子级精度的材料设计与制造技术，探讨其在表界面科学中的应用，尤其关注石墨烯基复合材料在热管理、纳米器件等领域的前沿进展，与实验室 “开发石墨烯复合多功能材料” 的研究方向高度契合。

先进低维材料与器件实验室参会人员合影

（从左至右：孙诗杰、耿熙、李世成、高蕾副教授、蔡金明教授、Karl-Heinz・Ernst教授、卢建臣教授、张逸、张永、薛宇飞、陈凌辉）

本届会议聚焦表界面科学与催化、超导、芯片等国家战略需求的深度融合，先进低维材料与器件实验室通过高水平学术输出与国际合作，进一步巩固了课题组在低维材料表界面领域的领先地位。未来，课题组将继续以原子级制造技术为核心，推动基础研究向新质生产力的转化，为我国科技自立自强贡献力量。