个人简介
2000-2010年期间留学英国，荷兰，比利时。在等离子体物理、等离子体医学、新型等离子体源开发、液态金属回路、液态金属储能等方面取得了创新性研究成果。首批受聘科技部国际热核反应堆国内专项课题负责人。真空科学与技术学报理事。中国电工技术学会电子束离子束专业委员会委员。The Open Surface Science Journal杂志编委。撰写英文专著2部。国内外著名期刊上共发表研究论文70余篇。主持ITER专项国内配套项目子课题2项，自然科学基金1项。
研究领域
1. 等离子体与壁材料相互作用研究
2. 等离子体医学
3. 液态金属回路
4. 液态金属储能
近期论文
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[1] F. Gou, M. A. Gleeson, A. W. Kleyn, Theoretical modeling of energy redistribution and stereodynamics in CFscattering from Si (100) under grazing incidence, Phys. Chem. Chem. Phys. 8, 5522 (2006)
[2] F. Gou, Molecular dynamics simulation of deposition and etching of Si bombarding by energetic SiF, Applied Surface Science 253, 5467（2007）
[4] F. Gou, M. A. Gleeson, A. W. Kleyn, CH3 interaction with Si (100)-(2x1): Molecular Dynamics Simulation, Surface Science 601, 3965 (2007)
[5] F. Gou, A. Gleeson, A. W. Kleyn，The application of molecular dynamics to the study of plasma-surface interactions: CFx with silicon, International Review of Physical Chemistry 27, 229-271 (2008)
[6] F. Gou, S. Tink, E. Neyts, A. Boargart, Molecular Dynamics Simulations of Cl+ Etching on a Si(100) Surface, Journal of Applied Physics. Accepted
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