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Sub-Nanometer Thick Wafer-Size NiO Films with Room-Temperature Ferromagnetic Behavior
Angewandte Chemie International Edition ( IF 16.6 ) Pub Date : 2021-09-17 , DOI: 10.1002/anie.202110185 Jiong Wang 1 , Liang Ma 2 , Xiangyi Wang 2 , Xiaohan Wang 2 , Junjie Yao 2 , Qinghua Yi 2 , Rujun Tang 3 , Guifu Zou 4
Angewandte Chemie International Edition ( IF 16.6 ) Pub Date : 2021-09-17 , DOI: 10.1002/anie.202110185 Jiong Wang 1 , Liang Ma 2 , Xiangyi Wang 2 , Xiaohan Wang 2 , Junjie Yao 2 , Qinghua Yi 2 , Rujun Tang 3 , Guifu Zou 4
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An atomic chemical-solution strategy allows wafer-size NiO thin films to be grown with controllable thickness down to sub-nanometer scale (0.92 nm) for the first time. The sub-nanometric NiO thin film exhibits the highest reported room-temperature ferromagnetic behavior.
中文翻译：
具有室温铁磁行为的亚纳米厚晶圆尺寸 NiO 薄膜
原子化学溶液策略首次允许晶片尺寸的 NiO 薄膜以可控的厚度生长到亚纳米级 (0.92 nm)。亚纳米 NiO 薄膜表现出最高的室温铁磁行为。
更新日期：2021-11-08
中文翻译：
具有室温铁磁行为的亚纳米厚晶圆尺寸 NiO 薄膜
原子化学溶液策略首次允许晶片尺寸的 NiO 薄膜以可控的厚度生长到亚纳米级 (0.92 nm)。亚纳米 NiO 薄膜表现出最高的室温铁磁行为。
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