Hard x-ray emission spectroscopy (XES) has been used to study buried layers and interfaces in a Fe/Si periodic multilayer. Until now, buried layers could be studied using the XES in the soft x-ray range. Here, we extend the methodology to study the buried interfaces in hard x-ray region (photon energy ≥ 5 keV). We report the formation of FeSi₂ at all the interfaces with thicknesses of 1.4 nm. X-ray reflectivity measurements enable us to deduce the structure and thickness of the multilayer stack, thereby confirming the presence of FeSi₂.

中文翻译：

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用硬 X 射线发射光谱研究 Fe/Si 多层膜中的埋入界面

硬 X 射线发射光谱 (XES) 已被用于研究 Fe/Si 周期性多层中的埋层和界面。到目前为止，可以在软 X 射线范围内使用 XES 研究埋层。在这里，我们扩展了方法来研究硬 X 射线区域（光子能量 ≥ 5 keV）中的掩埋界面。我们报告了厚度为 1.4 nm的 FeSi ₂在所有界面处的形成。X 射线反射率测量使我们能够推断多层叠堆的结构和厚度，从而确认 FeSi ₂的存在。