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Multifunctional MoOx and MoOxNy films with 2.5 < x < 3.0 and y < 0.2 prepared using controlled reactive deep oscillation magnetron sputtering
Thin Solid Films ( IF 2.1 ) Pub Date : 2021-01-01 , DOI: 10.1016/j.tsf.2020.138442 M. Procházka , J. Vlček , J. Houška , S. Haviar , R. Čerstvý , K. Veltruská
Thin Solid Films ( IF 2.1 ) Pub Date : 2021-01-01 , DOI: 10.1016/j.tsf.2020.138442 M. Procházka , J. Vlček , J. Houška , S. Haviar , R. Čerstvý , K. Veltruská
Abstract Reactive deep oscillation magnetron sputtering with a pulsed reactive gas flow control and to-substrate reactive gas injection into the high-density plasma in front of the sputtered Mo target was used for a low-temperature (
中文翻译：
使用受控反应深振荡磁控溅射制备具有 2.5 < x < 3.0 和 y < 0.2 的多功能 MoOx 和 MoOxNy 薄膜
摘要 具有脉冲反应气体流量控制和对衬底反应气体注入溅射钼靶前高密度等离子体的反应深振荡磁控管溅射用于低温（
更新日期：2021-01-01
中文翻译：
使用受控反应深振荡磁控溅射制备具有 2.5 < x < 3.0 和 y < 0.2 的多功能 MoOx 和 MoOxNy 薄膜
摘要 具有脉冲反应气体流量控制和对衬底反应气体注入溅射钼靶前高密度等离子体的反应深振荡磁控管溅射用于低温（
京公网安备 11010802027423号