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Study of local structure around Bi in topological insulating materials (Bi1-xSbx)2Te3 using extended x-ray absorption fine structure technique
Journal of Physics and Chemistry of Solids ( IF 4 ) Pub Date : 2021-03-01 , DOI: 10.1016/j.jpcs.2020.109834 R.R. Urkude , S.N. Jha , A.K. Yadav , U.A. Palikundwar
Journal of Physics and Chemistry of Solids ( IF 4 ) Pub Date : 2021-03-01 , DOI: 10.1016/j.jpcs.2020.109834 R.R. Urkude , S.N. Jha , A.K. Yadav , U.A. Palikundwar
Abstract We carried out a systematic study of electronic and local structures of Bi in topological insulating materials (Bi1-xSbx)2Te3 (0
中文翻译：
使用扩展 X 射线吸收精细结构技术研究拓扑绝缘材料 (Bi1-xSbx)2Te3 中 Bi 周围的局部结构
摘要 我们对拓扑绝缘材料 (Bi1-xSbx)2Te3 (0
更新日期：2021-03-01
中文翻译：
使用扩展 X 射线吸收精细结构技术研究拓扑绝缘材料 (Bi1-xSbx)2Te3 中 Bi 周围的局部结构
摘要 我们对拓扑绝缘材料 (Bi1-xSbx)2Te3 (0
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