Using the finite difference time domain (FDTD) method, we studied the optical properties of black silicon (BSi) layers passivated with the various metal oxides (Al₂O₃, TiO₂, HfO₂, and Sc₂O₃) films, obtained by atomic layer deposition (ALD) method. The results of FDTD modeling indicate an improvement in the antireflection properties of BSi/ALD film structures in the wide spectral range. The necessity to choose the optimal film thickness is shown.

中文翻译：

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金属氧化物薄膜钝化黑硅的光学特性的建模

使用时域有限差分法（FDTD），我们研究了被各种金属氧化物（Al ₂ O ₃，TiO ₂，HfO ₂和Sc ₂ O ₃）膜钝化的黑硅（BSi）层的光学特性。通过原子层沉积（ALD）方法。FDTD建模的结果表明，在宽光谱范围内，BSi / ALD膜结构的抗反射性能得到了改善。显示了选择最佳薄膜厚度的必要性。