In this study, the electrochemical breakdown potentials (E b) of NiTi stents were assessed in correlation to their nonmetallic inclusion fractions in the extra low inclusion (ELI) range (inclu.% < 1% in area fraction, average size <39 μm). Quantitative investigations were performed to study the role of nonmetallic inclusions during pitting corrosion. Two stent samples with different inclusion fractions were fabricated using commercial NiTi tubes for studying the corrosion and mechanism. A survey of seven commercial stents in Europe was also conducted. Dependence was observed between the breakdown potentials and the inclusion fractions in the ELI stent (inclu.% = 0.2-0.8%), in which the breakdown potentials were found to be inversely proportional to inclusion fractions and densities (E b dropped from ∼800 to ∼400 mV). No breakdown occurred on the samples using high-purity NiTi materials (inclu.% < 0.1%). The roles of inclusions in pitting mechanisms were investigated using scanning electron microscopy (SEM) characterizations. The microstructural evidence showed that the impact of TiC and Ti2NiO x was very different in the pitting process. A maximum inclu.% ≤ 0.9% was required for obtaining E b ≥ 600 mV to meet the Food and Drug Administrations (FDA's) in vivo safety acceptance (low risk up to 6 months postimplantation). The high-purity stents (inclu.% < 0.1%) did not exhibit corrosion susceptibility until 1000 mV, suggesting superior corrosion resistance and thus long-term in vivo safety.

中文翻译：

---

NiTi支架对夹杂物的高耐腐蚀性的实验证据。

在这项研究中，评估了NiTi支架的电化学击穿电位（E b）与其在极低夹杂物（ELI）范围内的非金属夹杂物分数的相关性（面积分数小于1％，平均尺寸小于39μm） 。进行了定量研究，以研究点蚀中非金属夹杂物的作用。使用商品化的NiTi管制作了两种夹杂物含量不同的支架样品，以研究其腐蚀机理。还对欧洲的七个商用支架进行了调查。观察到在ELI支架中击穿电位与夹杂物含量之间存在相关性（含％= 0.2-0.8％），发现击穿电位与夹杂物含量和密度成反比（E b从〜800下降至800约400 mV）。使用高纯度NiTi材料（含量<0.1％）不会在样品上发生分解。使用扫描电子显微镜（SEM）表征研究了夹杂物在点蚀机理中的作用。显微组织证据表明，在点蚀过程中，TiC和Ti2NiO x的影响差异很大。为了获得E b≥600 mV，需要达到最大包含％≤0.9％，以满足食品和药物管理局（FDA）的体内安全性要求（植入后长达6个月的低风险）。高纯度支架（包括<0.1％）直到1000 mV才显示出腐蚀敏感性，这表明其优越的耐腐蚀性，从而具有长期的体内安全性。使用扫描电子显微镜（SEM）表征研究了夹杂物在点蚀机理中的作用。显微组织证据表明，TiC和Ti2NiO x在点蚀过程中的影响差异很大。为了获得E b≥600 mV，需要达到最大包含％≤0.9％，以满足食品和药物管理局（FDA）的体内安全性要求（植入后长达6个月的低风险）。高纯度支架（包括<0.1％）直到1000 mV才显示出腐蚀敏感性，这表明其优越的耐腐蚀性，从而具有长期的体内安全性。使用扫描电子显微镜（SEM）表征研究了夹杂物在点蚀机理中的作用。显微组织证据表明，在点蚀过程中，TiC和Ti2NiO x的影响差异很大。为了获得E b≥600 mV，需要达到最大包含％≤0.9％，以满足食品和药物管理局（FDA）的体内安全性要求（植入后长达6个月的低风险）。高纯度支架（包括<0.1％）直到1000 mV才显示出腐蚀敏感性，这表明其优越的耐腐蚀性，从而具有长期的体内安全性。s）体内安全性接受（植入后长达6个月的低风险）。高纯度支架（包括<0.1％）直到1000 mV才显示出腐蚀敏感性，这表明其优越的耐腐蚀性，从而具有长期的体内安全性。s）体内安全性接受（植入后长达6个月的低风险）。高纯度支架（包括<0.1％）直到1000 mV才显示出腐蚀敏感性，这表明其优越的耐腐蚀性，从而具有长期的体内安全性。