OBJECTIVE To investigate the effect of different surface finishing and polishing regimes and low temperature degradation on flexural strength, phase transformation and surface topography of ultra-translucent ZrO2 ceramic. METHODS 300 (n=15/group) of conventional zirconia (Z: Ice Zirkon Transluzent) and ultra-translucent zirconia (UT: Prettau Anterior) bar-specimens were made and divided according to the "Finishing/Polishing" - (C - Control, B - diamond rubber polishers, P - adjusting with burs, PB - adjusting with burs+diamond polishers, PG - adjusting with burs+glaze), "Low temperature Degradation (LTD)" (with or without a treatment at 127°C, 1.7bar/24h). Then, a 3-point mini flexural test was performed in a universal testing machine (1mm/min, 500kgf load cell). SEM, EDS, XDR, AFM, optical profilometry and Weibull analysis were performed. Data were analyzed by 3-way ANOVA and Tukey's post-test (5%). RESULTS Groups ZPBD (1670±253MPa), ZBD (1664±217MPa), and ZB (1655±3678MPa) showed significantly higher flexural strength than the UTPG group (372±56MPa). The Weibull modulus was significantly higher for the ZPD group compared to the UB, UCD, UPD and UPBD, while UTB, UTCD and UTPD had the lowest value. Monoclinic phases were observed only in the conventional zirconia groups and were more evident after LTD. Diamond rubber polishers presented less roughness for both zirconias. SIGNIFICANCE The use of diamond rubber polishers is the most suitable finishing/polishing method for zirconia ceramic restorations and that final glazing reduces the fracture resistance of these materials.

中文翻译：

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抛光/抛光技术和低温降解对超半透明ZrO2陶瓷的表面形貌，相变和抗弯强度的影响。

目的研究不同表面光洁度和抛光方式以及低温降解对超透明ZrO2陶瓷抗弯强度，相变和表面形貌的影响。方法制作300（n = 15 /组）常规氧化锆（Z：Ice Zirkon Transluzent）和超半透明氧化锆（UT：Prettau Anterior）棒状试样，并根据“完成/抛光”-（C-对照，B-金刚石橡胶抛光机，P-毛刺调节，PB-毛刺+金刚石抛光剂调节，PG-毛刺+釉调节），“低温降解（LTD）”（经过或未经过127°C处理， 1.7bar / 24h）。然后，在通用测试机（1mm / min，500kgf称重传感器）中进行了3点微型弯曲测试。扫描电镜，EDS，XDR，AFM，进行光学轮廓测定和Weibull分析。数据通过三向方差分析和Tukey的后验分析（5％）进行分析。结果ZPBD组（1670±253MPa），ZBD（1664±217MPa）和ZB（1655±3678MPa）的弯曲强度均显着高于UTPG组（372±56MPa）。与UB，UCD，UPD和UPBD相比，ZPD组的Weibull模量明显更高，而UTB，UTCD和UTPD的最低。仅在常规氧化锆组中观察到单斜晶相，在LTD后更为明显。金刚石橡胶抛光剂对两种氧化锆的粗糙度都较小。重要性金刚石橡胶抛光剂的使用是最适合氧化锆陶瓷修复体的修整/抛光方法，最终的上光会降低这些材料的抗断裂性。数据通过三向方差分析和Tukey的后验分析（5％）进行分析。结果ZPBD组（1670±253MPa），ZBD（1664±217MPa）和ZB（1655±3678MPa）的弯曲强度均显着高于UTPG组（372±56MPa）。与UB，UCD，UPD和UPBD相比，ZPD组的Weibull模量明显更高，而UTB，UTCD和UTPD的最低。仅在常规氧化锆组中观察到单斜晶相，在LTD后更为明显。金刚石橡胶抛光剂对两种氧化锆的粗糙度都较小。重要性金刚石橡胶抛光剂的使用是最适合氧化锆陶瓷修复体的修整/抛光方法，最终的上光会降低这些材料的抗断裂性。数据通过三向方差分析和Tukey的后验分析（5％）进行分析。结果ZPBD组（1670±253MPa），ZBD（1664±217MPa）和ZB（1655±3678MPa）的弯曲强度均显着高于UTPG组（372±56MPa）。与UB，UCD，UPD和UPBD相比，ZPD组的Weibull模量明显更高，而UTB，UTCD和UTPD的最低。仅在常规氧化锆组中观察到单斜晶相，在LTD后更为明显。金刚石橡胶抛光剂对两种氧化锆的粗糙度都较小。重要性金刚石橡胶抛光剂的使用是最适合氧化锆陶瓷修复体的修整/抛光方法，最终的上光会降低这些材料的抗断裂性。ZB（1655±3678MPa）的抗弯强度明显高于UTPG组（372±56MPa）。与UB，UCD，UPD和UPBD相比，ZPD组的Weibull模量明显更高，而UTB，UTCD和UTPD的最低。仅在常规氧化锆组中观察到单斜晶相，在LTD之后更明显。金刚石橡胶抛光剂对两种氧化锆的粗糙度都较小。重要性金刚石橡胶抛光剂的使用是最适合氧化锆陶瓷修复体的修整/抛光方法，最终的上光会降低这些材料的抗断裂性。ZB（1655±3678MPa）的抗弯强度明显高于UTPG组（372±56MPa）。与UB，UCD，UPD和UPBD相比，ZPD组的Weibull模量明显更高，而UTB，UTCD和UTPD的最低。仅在常规氧化锆组中观察到单斜晶相，在LTD后更为明显。金刚石橡胶抛光剂对两种氧化锆的粗糙度都较小。重要性金刚石橡胶抛光剂的使用是最适合氧化锆陶瓷修复体的修整/抛光方法，最终的上光会降低这些材料的抗断裂性。UTCD和UTPD的值最低。仅在常规氧化锆组中观察到单斜晶相，在LTD后更为明显。金刚石橡胶抛光剂对两种氧化锆的粗糙度都较小。重要性金刚石橡胶抛光剂的使用是最适合氧化锆陶瓷修复体的修整/抛光方法，最终的上光会降低这些材料的抗断裂性。UTCD和UTPD的值最低。仅在常规氧化锆组中观察到单斜晶相，在LTD后更为明显。金刚石橡胶抛光剂对两种氧化锆的粗糙度都较小。重要性金刚石橡胶抛光剂的使用是最适合氧化锆陶瓷修复体的修整/抛光方法，最终的上光会降低这些材料的抗断裂性。