我们的文章 “Reductive Control of Refractory Contaminants in Water by Far-UVC Photolysis of Sulfite” 发表在 ES&T 上：

https://doi.org/10.1021/acs.est.5c03284

高级还原工艺 (ARP) 在去除难氧化性污染物（如PFAS）方面具有广阔应用前景。但由于较低的光子和药剂利用率以及低水合电子 (e_aq^-) 产率，传统的基于低压汞灯的高级还原工艺 (UV-ARP) 在实际应用中受到限制。最近研究表明，与波长为 254 nm 的紫外线相比，波长为222 nm的远紫外线在装置安全性、细菌灭活、高级氧化与光解污染物方面表现更好，同时亚硫酸盐在 222 nm 的吸光度远高于在 254 nm 的吸光度，这克服了传统 UV-ARP 的局限性。在这项研究中，我们证明在 UV/亚硫酸盐高级还原工艺中将紫外线辐射波长从 254 nm 切换到 222 nm，可将水合电子的产率提高 48.67 倍，并将四种卤代有机污染物的降解速度提高 16.37-35.62 倍。同时，研究表明 UV₂₂₂/亚硫酸盐高级还原工艺降低了氯化后形成的二氯乙腈 (DCAN) 浓度并降低了水的相关细胞毒性。这些发现强调了远紫外准分子灯在降低 UV-ARP 系统中对减少污染物的能源需求的潜力。我们提出，应进一步侧重于改进电光转换效率 (WPE) 和降低远紫外线辐射源的单位成本，以便能够大规模实施远紫外线驱动的 ARP 用于水处理应用。