Abstract In this research, the effects of thin Al2O3 diffusion barrier layer (including Y-containing small oxide precipitates) and nanostructured YSZ top coat on the high temperature oxidation behavior of HVOF NiCoCrAlTaY/APS YSZ coatings were examined by using isothermal oxidation tests at 1100 °C. Nanostructured YSZ top coat could slightly reduce the double layered TGO growth rate and weight gain of thermal barrier coating systems. However, Al2O3 diffusion barrier layer (consisting of Y-containing small oxide precipitates) could substantially decline the oxidation rate and Ta movement (Ta-enriched oxides formation) in the NiCoCrAlTaY/Al2O3/nanostructured YSZ coating at 1100 °C.

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Al 2 O 3 扩散阻挡层（包括含Y小氧化物沉淀物）和纳米结构YSZ涂层对HVOF NiCoCrAlTaY/APS YSZ涂层在1100°C氧化行为的影响

摘要 本研究通过 1100°等温氧化试验研究了薄的 Al2O3 扩散阻挡层（包括含 Y 的小氧化物沉淀物）和纳米结构的 YSZ 顶涂层对 HVOF NiCoCrAlTaY/APS YSZ 涂层高温氧化行为的影响。 C。纳米结构的 YSZ 面漆可以略微降低热障涂层系统的双层 TGO 生长速率和重量增加。然而，Al2O3 扩散阻挡层（由含 Y 的小氧化物沉淀物组成）可以显着降低 NiCoCrAlTaY/Al2O3/纳米结构 YSZ 涂层在 1100°C 时的氧化速率和 Ta 移动（Ta 富集氧化物的形成）。